TFT-LCD原理與設計(第二版)
馬群剛
- 出版商: 電子工業
- 出版日期: 2021-01-01
- 售價: $1,200
- 語言: 簡體中文
- 頁數: 644
- ISBN: 712140043X
- ISBN-13: 9787121400438
下單後立即進貨 (約4週~6週)
相關主題
商品描述
本書將科學原理與工程實踐相結合,系統地介紹TFT-LCD的基本原理與功能設計。全書共12章,分三大部分。第一部分介紹TFT-LCD的基本概念,TFT器件的工作原理與液晶的基本物理特性;第二部分介紹TFT-LCD的材料技術與工藝技術;第三部分介紹TN/IPS/VA顯示屏原理與設計、TFT-LCD電路驅動原理與設計、TFT-LCD模組結構原理與設計、TFT-LCD高品質和低成本設計、半透過型TFT-LCD原理與設計。本書在介紹TFT-LCD基本原理的基礎上,全面地介紹了近幾年發展起來的TFT-LCD新技術、新應用。本書可作為高校、科研單位、企業、政府等學習、應用和發展TFT-LCD顯示技術的重要參考資料。
目錄大綱
目錄
第1章 緒論 001
1.1 TFT-LCD的功能結構 001
1.2 TFT-LCD的基本概念 005
1.2.1 與物理相關的概念 005
1.2.2 與光學相關的概念 009
1.3 TFT-LCD的彩色顯示 013
1.3.1 光的顏色和亮度 013
1.3.2 色的坐標和溫度 016
1.3.3 彩色顯示的基本概念 021
本章參考文獻 024
第2章 TFT器件技術 028
2.1 TFT器件基礎 028
2.1.1 TFT器件的種類與結構 028
2.1.2 TFT器件的開關特性 030
2.1.3 TFT開關特性的結構設計 034
2.2 a-Si TFT技術 039
2.2.1 a-Si半導體特性 039
2.2.2 a-Si TFT開關特性 042
2.2.3 a-Si TFT工藝技術 047
2.2.4 a-Si TFT開關的工藝設計 051
2.3 LTPS TFT技術 054
2.3.1 LTPS TFT的分類 055
2.3.2 LTPS 半導體特性 059
2.3.3 LTPS TFT器件特性 061
2.3.4 LTPS TFT工藝技術 066
2.4 IGZO TFT技術 069
2.4.1 IGZO半導體特性 070
2.4.2 IGZO TFT器件特性 073
2.4.3 IGZO TFT可靠性 075
本章參考文獻 080
第3章 液晶顯示基礎 086
3.1 液晶結構 086
3.2 液晶光學 089
3.2.1 液晶的光學各向異性 089
3.2.2 液晶的偏光特性 091
3.3 液晶電學 093
3.3.1 液晶的介電各向異性 093
3.3.2 液晶的V-T特性 095
3.3.3 液晶的交流驅動 096
3.4 液晶力學 097
3.4.1 液晶的黏彈性 097
3.4.2 液晶動態電容效應 099
3.5 液晶材料 100
3.5.1 液晶分子結構與特性 100
3.5.2 液晶材料的特性要求 104
3.6 液晶顯示模式 106
3.6.1 TN顯示模式 106
3.6.2 IPS顯示模式 108
3.6.3 VA顯示模式 109
本章參考文獻 110
第4章 TFT-LCD材料技術 113
4.1 玻璃基板 113
4.1.1 玻璃基板的製造技術 113
4.1.2 玻璃基板的使用要求 116
4.2 導電薄膜 119
4.2.1 金屬導電薄膜 119
4.2.2 ITO透明導電薄膜 122
4.3 配向膜 125
4.3.1 配向膜的材料技術 125
4.3.2 配向膜的特性要求 127
4.4 封框膠 130
4.5 間隙子 132
4.6 CF基板 135
4.6.1 CF的材料技術 136
4.6.2 CF的特性要求 140
4.7 偏光板 144
4.7.1 偏光板概述 144
4.7.2 相位差板 148
4.7.3 寬視角補償膜 151
4.8 電路元件 155
4.8.1 電學元器件 155
4.8.2 PCB基板 155
4.8.3 驅動IC封裝方式 157
4.9 背光源 159
4.9.1 光源 159
4.9.2 光學膜片 162
4.9.3 導光板 166
本章參考文獻 168
第5章 TFT-LCD工藝技術 173
5.1 陣列工藝技術 173
5.1.1 陣列工藝流程 174
5.1.2 玻璃基板洗凈 177
5.1.3 PVD成膜 179
5.1.4 PECVD成膜 182
5.1.5 光刻膠處理 185
5.1.6 曝光處理 189
5.1.7 濕刻 193
5.1.8 乾刻 196
5.1.9 陣列檢查工程 199
5.2 成盒工藝技術 201
5.2.1 配向膜處理 202
5.2.2 封框膠塗布 205
5.2.3 液晶滴下 207
5.2.4 真空貼合 209
5.2.5 封框膠硬化 212
5.2.6 玻璃切斷 214
5.2.7 偏光板貼附 217
5.2.8 成盒工程檢查 219
5.3 模塊工藝技術 221
5.3.1 外引腳貼合 221
5.3.2 信號處理基板壓接 225
5.3.3 模塊組裝 227
5.3.4 老化實驗 228
5.3.5 模塊工程檢查 230
本章參考文獻 231
第6章 TN顯示原理與設計 235
6.1 TN顯示原理 235
6.1.1 TN顯示的透光率 235
6.1.2 TN顯示模式的選擇 238
6.1.3 TN顯示的光學原理 240
6.1.4 TN顯示的電學原理 243
6.2 TN像素工作原理 246
6.2.1 TN像素基本結構 246
6.2.2 像素中的電容效應 249
6.2.3 配線延遲效應 253
6.2.4 灰階電壓寫入與保持 257
6.2.5 TN顯示的綜合效應 259
6.3 15XGA的顯示屏設計 262
6.3.1 默認計 262
6.3.2 TFT側像素設計 267
6.3.3 彩膜側像素設計 272
6.3.4 顯示屏周邊設計 277
6.3.5 顯示屏用標記設計 284
6.4 15XGA的基板相關設計 288
6.4.1 基板用TEG與標記設計 288
6.4.2 UV掩膜版和UV基板設計 292
6.4.3 配向膜印刷版設計 296
本章參考文獻 298
第7章 IPS顯示原理與設計 302
7.1 IPS顯示原理 302
7.1.1 IPS顯示的透光率 302
7.1.2 IPS顯示的光學原理 306
7.1.3 IPS顯示的電學原理 310
7.2 IPS技術的發展 312
7.2.1 S-IPS顯示技術 313
7.2.2 AS-IPS顯示技術 316
7.2.3 FFS顯示技術 317
7.2.4 AFFS顯示技術 321
7.3 32HD IPS顯示屏設計 324
7.3.1 IPS像素設計原理 324
7.3.2 32HD像素設計 329
7.3.3 32HD顯示屏設計 334
7.4 32UHD FFS顯示屏設計 337
7.4.1 AFFS像素設計原理 337
7.4.2 32UHD像素設計 339
7.4.3 32UHD顯示屏設計 343
7.5 IPS殘像的機理與對策 346
7.5.1 IPS殘像的機理 347
7.5.2 離子型不純物分析 351
7.5.3 殘留DC分析 356
7.5.4 線殘像的機理與對策 361
本章參考文獻 363
第8章 VA顯示原理與設計 366
8.1 VA顯示原理 366
8.1.1 VA顯示的透光率 366
8.1.2 VA顯示的光學原理 368
8.1.3 VA顯示的電學原理 370
8.2 VA技術的發展 373
8.2.1 MVA顯示技術 373
8.2.2 PVA顯示技術 377
8.2.3 CPA顯示技術 380
8.2.4 PSVA顯示技術 386
8.2.5 UV2A顯示技術 388
8.3 VA的色偏機理與對策 390
8.3.1 VA的色偏機理與評價 390
8.3.2 色偏的8疇改善技術 394
8.3.3 色偏的其他改善技術 399
8.4 98QUHD顯示屏設計 401
8.4.1 98QUHD的傳統VA像素設計 402
8.4.2 98QUHD的光配向VA像素設計 407
8.4.3 98QUHD顯示屏設計 410
本章參考文獻 415
第9章 TFT-LCD驅動技術與設計 419
9.1 TFT-LCD驅動原理 419
9.1.1 驅動原理簡介 419
9.1.2 驅動方式 423
9.1.3 灰階增強技術 428
9.2 TFT-LCD電路技術 431
9.2.1 接口電路 432
9.2.2 電源電路 439
9.2.3 時序控制電路 444
9.2.4 數據驅動電路 451
9.2.5 掃描驅動電路 460
9.3 TFT-LCD電路設計 466
9.3.1 電路原理圖設計 466
9.3.2 PCB和COF版圖設計 473
9.3.3 COF設計 478
9.3.4 伽馬設計與調節 479
本章參考文獻 482
第10章 TFT-LCD結構技術與設計 486
10.1 結構技術與設計概要 486
10.1.1 結構技術概要 486
10.1.2 結構設計概要 490
10.2 模組的結構設計 493
10.2.1 開路顯示屏結構設計 493
10.2.2 膠框設計 498
10.2.3 導光板設計 501
10.2.4 光學膜片設計 503
10.2.5 CCFL光源的結構設計 505
10.2.6 LED光源的結構設計 510
10.3 背光源的光學設計 512
10.3.1 光學設計基礎 513
10.3.2 亮度設計 516
10.3.3 亮度均勻性設計 517
10.3.4 光學品質設計 520
10.4 模組的力學設計 521
10.4.1 強度設計 522
10.4.2 散熱設計 527
10.4.3 防塵設計 529
10.5 模組的電學設計 530
10.5.1 EMI設計 530
10.5.2 絕緣耐壓設計 532
10.6 模組的其他設計 532
10.6.1 組裝設計 532
10.6.2 安全性設計 533
本章參考文獻 535
第11章 高品質和低成本設計 539
11.1 面向光學規格的高品質設計 539
11.1.1 高亮度設計 539
11.1.2 高對比度設計 541
11.1.3 高響應速度設計 544
11.2 面向特殊畫質的高品質設計 548
11.2.1 閃爍機理與設計對策 548
11.2.2 串擾機理與設計對策 552
11.2.3 顯示不均的機理與設計對策 557
11.3 高合格率設計 563
11.3.1 工程檢查及相關設計 563
11.3.2 ESD改善設計 565
11.3.3 點缺陷修復設計 569
11.3.4 線缺陷修復設計 574
11.4 低成本設計 577
11.4.1 掩膜版消減技術 578
11.4.2 驅動IC消減技術 581
11.4.3 背光源零組件消減技術 588
本章參考文獻 590
第12章 半透過型TFT-LCD設計 594
12.1 反射型TFT-LCD原理與設計 594
12.2 半透過型TFT-LCD原理與設計 597
12.3 半透過型TFT-LCD的反射光學設計 600
12.3.1 內反射光學設計 601
12.3.2 外反射光學設計 604
12.4 半透過型TFT-LCD的偏光光學設計 606
12.4.1 ECB常白模式的偏光光學設計 607
12.4.2 ECB常黑模式的偏光光學設計 612
本章參考文獻 614