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商品描述
本書是由美圖半導體、研材微納、博研微納聯 合編寫的光刻技術專業書籍。本書以簡明易懂的方 式，全面系統地介紹了光刻技術的基礎理論、核心 工藝、關鍵材料及相關應用。內容涵蓋光刻技術的 多個方面，主要包括以下六大部分：光刻技術概述 、光刻技術的基礎、掩模版、光刻基本工藝流程、 光刻膠以及光刻相關工藝。
目錄大綱
第1章 光刻技術概述
1.1 光刻的定義
1.2 光刻技術的起源與發展
1.2.1 石版印刷
1.2.2 照相術
1.2.3 印刷電路板
1.3 現代光刻技術發展
第2章 光刻技術的基礎
2.1 光刻技術的重要性
2.1.1 光刻技術推動摩爾定律
2.1.2 光刻技術占半導體投資比例巨大
2.1.3 光刻技術是“工業皇冠上的明珠”
2.1.4 光刻技術擴展到其他領域，推動 多產業走向微小型化
2.2 現代光刻技術的分類
2.2.1 接觸/接近式光刻
2.2.2 投影式光刻
2.2.3 極紫外光刻
2.2.4 激光直寫
2.2.5 電子束直寫
2.2.6 納米壓印
第3章 掩模版
3.1 掩模版的發展
3.2 掩模版的分類
3.2.1 不同的設計原理
3.2.2 不同的透光區域面積
3.3 掩模版的結構
3.3.1 掩模版的結構組成
3.3.2 掩模版的設計分布
3.3.3 掩模版的實物圖
3.3.4 區分掩模版正反面的方法
3.4 掩模版的制作
3.4.1 圖形設計
3.4.2 圖形轉換
3.4.3 圖形光刻
3.4.4 刻蝕
3.4.5 測量
3.4.6 清洗
3.5 掩模版的設計
3.6 掩模版的清洗
第4章 光刻基本工藝流程
4.1 預處理
4.1.1 清洗
4.1.2 去除水汽
4.1.3 使用增黏劑
4.2 塗覆技術
4.2.1 旋轉塗覆
4.2.2 霧化噴塗
4.2.3 刮塗法
4.2.4 浸漬提拉法
4.2.5 輥塗法
