半導體奈米技術, 3/e

龍文安

  • 出版商: 五南
  • 出版日期: 2010-07-07
  • 定價: $1,200
  • 售價: 9.0$1,080
  • 語言: 繁體中文
  • 頁數: 1008
  • ISBN: 9571159360
  • ISBN-13: 9789571159362
  • 相關分類: 半導體

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商品描述

<內容簡介>

半導體製程已進入奈米線幅,而廣義微影技術為半導體製程之核心,惜國內尚無中文微影技術專書,因此決定教研之餘撰寫本書,以彌補此缺憾與空白,並為推動科技中文化,略盡個人棉薄。
  本書重點在微影技術原理與概念之說明,而不在生產線上實務細節之描述。內容包括微影技術全部重要內涵,例如微影製程、微影光學、主要微影方法、其他微影方法、圖罩與圖規、阻劑、解像度增進技術、銅互連線、化學機械研磨、電漿蝕刻與光學微影模擬。基於多年在交通大學應用化學研究所之教學經驗,本書亦包含瞭解微影技術必要之矽製程背景知識與基礎光學。
  末來數年,半導體量產線幅當推進至45-32-22奈米技術節點,光學微影製程之難度日益增加,對製程工程師之挑戰亦日益升高。本書對相關領域讀者應有所助益與參閱價值。

 

<章節目錄>

第一章 背景知識
第二章 微影緒論
第三章 微影製程概述
第四章 基礎光學
第五章 微影光學
第六章 主要微影方法
第七章 其他微影方法
第八章 圖罩與圖規
第九章 阻劑化學
第十章 解像度增進技術
第十一章 銅互連線
第十二章 化學機械研磨
第十三章 電漿蝕刻
第十四章 微影模擬