VLSI 設計與製造入門
趙中興
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商品描述
■ 內容簡介 完整但淺顯的介紹是本書的特色之一,內容針對VLSI電路設計與半導 體製程有詳盡介紹,並佐以圖和照片說明,更加容易貫通理解。讀完 本書後,對於日本半導體製造技術,將會有更深入的體會和見解。 ■ 目錄 第1章 何謂VLSI,IC? 1-1 1-1積體電路的種類、功能及優點1-3 1-1-1積體電路IC的種類與功能1-3 1-1-2 積體電路IC的優點1-5 1-2 積體電路的開發流程1-14 1-2-1 積體電路設計的開發1-14 1-2-2 半導體製程1-23 1-3 積體電路的種類與構造1-24 第2章 VLSI的基本元件與特性2-1 2-1 二極體2-1 2-1-1 pn接面二極體2-2 2-1-2 二極體在偏壓下的電壓/電流特性2-4 2-1-3 少量載子的累積效應2-6 2-1-4 蕭特基二極體(Schottky diode)2-7 2-2 雙極性電晶體2-8 2-2-1雙極性電晶體的基本特性2-10 2-2-2 雙極性電晶體的工作原理與等效電路2-14 2-3 MOS電晶體2-19 2-3-1 MOS電晶體的基本構造,符號及基本特性2-20 2-3-2 MOS電晶體的工作特性2-24 2-3-3 MOS電晶體的工作原理與通道的關係2-26 2-3-4 MOS電晶體的等效電路2-28 2-3-5 MOS電晶體的基本特性與微細化2-31 2-4 電容2-35 2-5 電阻2-37 第3章 VLSI積體電路與基本特性3-1 3-1 數位邏輯電路的基本特性3-1 3-1-1 積體電路的直流特性(輸出/輸入電壓的傳遞特性)3-2 3-1-2 扇入,輸入端數(fan in m); 扇出,輸出端數(fan out n)3-4 3-1-3 信號傳遞的時間延遲特性3-5 3-1-4 消費電力的特性3-7 3-2 雙極性電晶體IC的基本邏輯電路3-8 3-2-1 飽和型邏輯電路3-10 3-2-2 非飽和型邏輯電路3-17 3-3 MOS IC的基本邏輯電路3-20 3-3-1 阻抗負載型MOS電晶體之反相器電路3-20 3-3-2 E/D反相器邏輯電路3-22 3-3-3 clock nMOS 邏輯電路3-28 3-4 CMOS電晶體的基本邏輯電路3-30 3-5 MOS IC的邏輯電路3-38 3-5-1 組合邏輯電路3-39 3-5-2 時序邏輯電路3-43 3-5-3 其他的邏輯電路3-47 3-6 Bi-CMOS IC的基本邏輯電路3-52 第4章 VLSI的記憶體與特性4-1 4-1 VLSI記憶體的基本結構4-2 4-2 MOS 動態隨機存取記憶體(DRAM)4-3 4-3 MOS靜態隨機存取記憶體(SRAM)4-6 4-4 唯讀專用記憶體(ROM)4-8 4-4-1 罩幕式唯讀專用記憶體(mask ROM)4-9 4-4-2 P-ROM與EP-ROM4-13 4-4-3 EP-ROM與flash EP-ROM4-16 第5章 VLSI的設計5-1 5-1 原始光罩的電路圖案設計(mask pattern design)5-1 5-2 CMOS電晶體積體電路的圖案設計5-13 5-3 VLSI電腦輔助設計的支援技術5-15 5-4 VLSI的自動化程式設計 (electrical design automation)5-17 第6章 VLSI的製造與半導體製程6-1 6-1 VLSI的製造技術6-1 6-1-1 微影光刻製程(photo engraving process,簡稱PEP)6-1 6-1-2 雙極性電晶體IC的半導體製程6-4 6-1-3 MOS IC的半導體製程6-6 6-2 VLSI的基本製程(unit process)6-12 6-2-1 單晶矽晶圓的製造6-13 6-2-2 p型半導體層,n型半導體層的形成6-19 6-2-3 絕緣薄膜的形成6-34 6-2-4 多晶矽薄膜6-43 6-2-5 金屬薄膜6-44 6-2-6 蝕刻加工(etching)6-47 第7章 微影光刻印刷技術與VLSI電路設計7-1 7-1 微影光刻製程7-1 7-2 積體電路圖案的轉印(pattern transfer)7-2 7-2-1 直接曝光轉印7-4 7-2-2 間接投影曝光轉印7-7 7-3 電路的描繪與光罩的製作7-13 7-3-1 光罩的電路圖案設計7-14 7-3-2 光罩製作技術7-17 7-3-3 光罩的材料與種類7-24 |