高科技廠務, 4/e

這些年來光電、生物科技迅速掘起加速更新，半導體也推陳出新挑戰極限，而這些改變則是需要嚴格的生產廠房及研發環境，但在目前市面是並無以有系統介紹建立高科技廠房的專業案頭書，有鑑於此，作者將二十多年來在高科技產業的執行及顧問經驗，將所有的廠務系統作全面有秩序的整理編寫。本書共分為十三大章，內容涵蓋了潔淨室和廠務之八大系統，除此之外有風險管理和建廠工程之規劃內容和執行原則介紹，本書的內容偏重實務之應用面和執行面。本書適合科大電機系、能源與冷凍空調工程系「半導體廠務」、「半導體與光電廠務設施」課程使用。

第1章　潔淨室與空調

1-1　前　言

1-2　潔淨室定義與發展史

1-3　潔淨室標準與規格

1-4　潔淨室適用範圍

1-5　潔淨室分類

1-6　潔淨空氣流分析

1-7　不同障礙物對氣流之影響

1-8　潔淨室設計規劃

1-9　潔淨室震動、靜電、噪音、電磁干擾之防制

1-10　潔淨室空調設計

1-11　潔淨室建造、組裝材及程序

1-12　潔淨室測試與驗收

1-13　潔淨室運轉與維護管理

1-14　潔淨室自動化系統

1-15　潔淨室建造成本分析



第2章　超純水處理

2-1　前　言

2-1-1　純水之功能

2-1-2　水中之污染物

2-1-3　水中不純物之測定分析

2-2　超純水之製造

2-2-1　超純水之規範

2-2-2　純水製造類別分析

2-2-3　純水製造用膜材質比較

2-3　高科技產業用超純水

2-3-1　高科技廠純水製造流程

2-3-2　各製程模組件功能分析

2-3-3　超純水管路設計

2-3-4　超純水運轉、故障排除與品質監控



第3章　中央式化學品供應系統

3-1　前　言

3-2　化學品供應需求要素

3-3　化學品供應種類

3-4　化學品供應系統之架構與作用原理

3-5　化學品配管與安全考量

3-6　結　論



第4章　中央式氣體供應系統

4-1　前　言

4-2　光電廠和半導體廠所使用之氣體

4-3　氣體的規範

4-4　中央式氣體供應架構

4-5　供氣系統的安全技術

4-6　氣體的供應輸送

4-7　氣體供應的規劃與設計



第5章　廢水處理及回收

5-1　前　言

5-2　　排放標準

5-3　廢水種類

5-4　廢水處理系統介紹

5-5　廢水處理之規劃設計運轉



第6章　電力供應與中央監控

6-1　前　言

6-2　電力供應系統組成

6-3　受電供電設備

6-4　建廠電力系統規劃

6-5　電力供應系統設備運轉管理

6-6　廠務中央監控系統



第7章　廠務設施架構

7-1　前　言

7-2　冰水及冷凝冷卻水

7-3　熱水、蒸氣與柴油、瓦斯供應系統

7-4　製程冷卻水

7-5　乾燥壓縮空氣／呼吸用空氣

7-6　製程真空和清潔用真空系統



第8章　環境保護與工業安全維護

8-1　前　言

8-2　環保與工安之功能目的

8-3　半導體與光電廠廢氣處理規劃

8-4　廢氣種類與排放標準

8-5　廢氣處理方式

8-6　廢棄物處理與減廢

8-7　有關環保相關申請文件及流程

8-8　工業安全與衛生維護



第9章　管路設計及空間佈置規劃

9-1　前　言

9-2　管路材質選用

9-3　氣體管路配管

9-4　管路標示

9-5　管路設計規劃

9-6　管路之空間佈置



第10章 建廠設計評估及施工監造管理

10-1　前　言

10-2　建廠工程規劃

10-3　建廠工程設計及施工執行流程



第11章 風險評估管理計劃

11-1　前　言

11-2　風險管理四要素

11-3　風險評估程序

11-4　損害防阻執行

11-5　災害復原計畫



第12章 高科技廠建廠及運轉成本分析

12-1　前　言

12-2　建廠時程

12-3　建廠成本分析

12-4　廠務系統用量分析



第13章 結　語

附　 　錄 簡稱字彙