圖解入門半導體製造設備基礎與構造精講原書第3版

本書以簡潔明了的結構向讀者展現了半導體製造工藝中使用的設備基礎和構造。
全書涵蓋了半導體製造設備的現狀以及展望，同時也對清洗和乾燥設備、離子注入設備、
熱處理設備、光刻設備、蝕刻設備、成膜設備、平坦化設備、監測和分析設備、後段製程設備等逐章進行解說。
雖然包含了很多生澀的詞彙，但難能可貴的是全書提供了豐富的圖片和表格，幫助讀者進行理解。
 相信本書一定能帶領讀者進入一個半導體製造設備的立體世界。

本書適合從事半導體與芯片加工、設計的從業者，以及準備涉足上述領域的上班族和學生閱讀參考。

佐藤淳一，畢業於京都大學工學研究科，並獲得碩士學位。
1978年開始就職於東京電氣化學工業株式會社（現TDK），1982年開始就職於索尼公司。
一直從事半導體和薄膜器件相關工藝的研究開發工作。
在此期間，參與創建半導體尖端技術公司，擔任長崎大學兼職講師、行業協會委員等職位，同時也是應用物理學會員。

譯者簡介
盧濤
江蘇常州人，日本中央大學工科碩士。
精通各種半導體製造設備流程與開發，曾參與半導體工廠數據的實時傳輸和設備狀態的分析。